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文献
J-GLOBAL ID：200902174394302341
整理番号：98A0861455
サブ0.25μm CMOS ULSI技術における完全な銅配線
Full Copper Wiring in a Sub-0.25μm CMOS ULSI Technology.
EDELSTEIN D
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
GOLDBLATT R
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
COTE W
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
MOTSIFF W
(IBM Microelectronics, VT)
,
SIMON A
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
WACHNIK R
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
RATHORE H
(IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, NY)
,
LUCE S
(IBM Microelectronics, VT)
,
SLATTERY J
(IBM Microelectronics, VT)
資料名：
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻： 1997 ページ： 773-776 発行年： 1997年
JST資料番号： C0829B ISSN： 0163-1918 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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