文献
J-GLOBAL ID:200902174451551728
整理番号:99A0999511
Ir/(100)(ZrO2)1-x(Y2O3)x/(100)Si構造上のエピタキシャルPb(Zr,Ti)O3膜に関する材料特性の厚み依存性
Thickness Dependence of Material Properties of Epitaxial Pb(ZrxTi1-x)O3 Films on Ir/(100) (ZrO2)1-x(Y2O3)x/(100)Si Structures.
著者 (4件):
HORII S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
YOKOYAMA S
(Kokusai Electric Co., Ltd., Toyama, JPN)
,
NAKAJIMA H
(Kokusai Electric Co., Ltd., Toyama, JPN)
,
HORITA S
(Kokusai Electric Co., Ltd., Toyama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
9B
ページ:
5378-5382
発行年:
1999年09月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)