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文献
J-GLOBAL ID：200902174542859385
整理番号：99A0886739
ポジ型フォトレジストの光感度を増進するための酸性増幅剤としてのスルホン酸3-フェニル-3,3-エチレンジオキシ-1-プロピル
3-Phenyl-3,3-ethylenedioxy-1-propyl Sulfonates as Acid Amplifiers To Enhance the Photosensitivity of Positive-Working Photoresists.
KUDO K
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
ARIMITSU K
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
OHMORI H
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
ITO H
(Toppan Co. Ltd., Saitama, JPN)
,
ICHIMURA K
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 11 号： 8 ページ： 2119-2125 発行年： 1999年08月
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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