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文献
J-GLOBAL ID：200902174740696939
整理番号：02A0647568
テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンで作製した低k有機シリケート膜
Low-k organosilicate films prepared by tetravinyltetramethylcyclotetrasiloxane.
LUBGUBAN J JR
(Texas Tech Univ., Texas)
,
RAJAGOPALAN T
(Texas Tech Univ., Texas)
,
MEHTA N
(Texas Tech Univ., Texas)
,
LAHLOUH B
(Texas Tech Univ., Texas)
,
SIMON S L
(Texas Tech Univ., Texas)
,
GANGOPADHYAY S
(Texas Tech Univ., Texas)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 92 号： 2 ページ： 1033-1038 発行年： 2002年07月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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