文献
J-GLOBAL ID:200902175416435533
整理番号:97A0356912
シリコン二重るつぼCzochralski工程における温度および酸素濃度の分布に対する電磁撹はんの効果の数値研究
A Numerical Study of the Effects of Electromagnetic Stirring on the Distributions of Temperature and Oxygen Concentration in Silicon Double-Crucible Czochralski Processing.
著者 (2件):
ONO N
(Mitsubishi Materials Corp., Saitama)
,
TRAPAGA G
(Massachusetts Inst. Technol., Massachusetts, USA)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
144
号:
2
ページ:
764-772
発行年:
1997年02月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)