文献
J-GLOBAL ID:200902176069964187
整理番号:99A0739066
CH4/H2反応性イオンエッチングで製作したベンゾシクロブテン/半導体高反射ミラーを用いた多重マイクロキャビティレーザ
Multiple Micro-Cavity Laser with Benzocyclobutene/Semiconductor High Reflective Mirrors Fabricated by CH4/H2-Reactive lon Etching.
著者 (3件):
RAJ M M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TOYOSHIMA S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ARAI S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
38
号:
7B
ページ:
L811-L814
発行年:
1999年07月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)