文献
J-GLOBAL ID:200902176125927826
整理番号:93A0466169
XPSとその場偏光解析法によるDLC/シリコン界面の研究
Study of DLC/silicon interfaces by XPS and in-situ ellipsometry.
著者 (3件):
FOURCHES N
(LPCM-IMN-UMR 110-CNRS, Nantes, FRA)
,
TURBAN G
(LPCM-IMN-UMR 110-CNRS, Nantes, FRA)
,
GROLLEAU B
(LPCM-IMN-UMR 110-CNRS, Nantes, FRA)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
68
号:
1
ページ:
149-160
発行年:
1993年05月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)