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文献
J-GLOBAL ID：200902176284075016
整理番号：02A0322513
高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したSiO2膜の機械的性質に及ぼすO2ガス分圧の効果
Effect of O2 gas partial pressure on mechanical properties of SiO2 films deposited by radio frequency magnetron sputtering.
FUJIYAMA H
(Fukuoka Inst. Technol., Fukuoka, JPN)
,
SUMOMOGI T
(Hiroshima Kokusai Gakuin Univ., Hiroshima, JPN)
,
ENDO T
(Hiroshima Kokusai Gakuin Univ., Hiroshima, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 20 号： 2 ページ： 356-361 発行年： 2002年03月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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