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文献
J-GLOBAL ID：200902176373895256
整理番号：00A0154884
走査型トンネル顕微鏡により比較したGe(100)表面とGe/Si(100)表面との初期酸素相互作用
Initial Oxygen Interaction between Ge(100) and Ge/Si(100) Surfaces Compared by Scanning Tunneling Microscopy.
FUKUDA T
(NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 38 号： 12A ページ： L1450-L1452 発行年： 1999年12月01日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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