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文献
J-GLOBAL ID：200902176577366511
整理番号：99A0737041
スパッタ堆積非晶質Ge2Sb2Te5薄膜の結晶化挙動
Crystallization behavior of sputter-deposited amorphous Ge2Sb2Te5 thin films.
JEONG T H
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
KIM M R
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
SEO H
(LG Corporate Inst. Technol., Seoul, KOR)
,
KIM S J
(Ajou Univ., Suwon, KOR)
,
KIM S Y
(Ajou Univ., Suwon, KOR)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 86 号： 2 ページ： 774-778 発行年： 1999年07月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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