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文献
J-GLOBAL ID：200902176853422358
整理番号：01A0503816
裏面パルスイオンビーム蒸発によって作製した強誘電体薄膜
Ferroelectric Thin Films Prepared by Backside Pulsed Ion-Beam Evaporation.
SONEGAWA T
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
ARAKAKI T
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
MAEHAMA T
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
JIANG W
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
YATSUI K
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 40 号： 2B ページ： 1049-1051 発行年： 2001年02月28日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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