文献
J-GLOBAL ID:200902177251426545
整理番号:94A0293372
In Situ Transmission Electron Microscopy of Semiconductors.
著者 (4件):
HEYDENREICH J
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik Halle/Saale, DEU)
,
BAITHER D
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik Halle/Saale, DEU)
,
HOEHL D
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik Halle/Saale, DEU)
,
MESSERSCHMIDT U
(Max-Planck-Inst. Mikrostrukturphysik Halle/Saale, DEU)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applied Research
(Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻:
138
号:
2
ページ:
505-515
発行年:
1993年08月16日
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
0031-8965
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)