文献
J-GLOBAL ID:200902177433615599
整理番号:93A0424293
高蒸着速度で作製した大面積,低抵抗ITO膜
Large scale and low resistance ITO films formed at high deposition rates.
著者 (6件):
SUZUKI K
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
,
HASHIMOTO N
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
,
OYAMA T
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
,
SHIMIZU J
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
,
AKAO Y
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
,
KOJIMA H
(Asahi Glass Co. Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
226
号:
1
ページ:
104-109
発行年:
1993年04月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)