文献
J-GLOBAL ID:200902177703908178
整理番号:01A0758387
シランカップリング処理された表面へのレジスト像の接着の原子間力顕微鏡(AFM)による直接測定
Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope(AFM.)
著者 (2件):
KAWAI A
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
ABE T
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
14
号:
4
ページ:
513-518
発行年:
2001年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)