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文献
J-GLOBAL ID：200902177745713105
整理番号：99A0798330
半導体製造プロセス用ケミカルスの新展開 Part 1 高純度スパッタリングターゲット Cuデュアルダマシン対応材料
High-Purity Sputtering Targets.
石丸泰
(真空冶金)
,
斎藤茂
(真空冶金)
資料名：
月刊ファインケミカル
(ファインケミカル)
巻： 28 号： 14 ページ： 37-45 発行年： 1999年08月15日
JST資料番号： Y0020A ISSN： 0913-6150 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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