文献
J-GLOBAL ID:200902177758327212
整理番号:97A0992997
低い貫通転位密度を持つ選択成長GaN膜中の欠陥構造
Defect structure in selectively grown GaN films with low threading dislocation density.
著者 (3件):
SAKAI A
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
SUNAKAWA H
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
USUI A
(NEC Corp., Ibaraki, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
71
号:
16
ページ:
2259-2261
発行年:
1997年10月20日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)