文献
J-GLOBAL ID:200902177860137770
整理番号:93A0724402
Simulation of surface diffusion of copper ad-atom and their clusters on copper(111) plane.
著者 (1件):
DOYAMA M
(Nishi-Tokyo Univ., Yamanashi, JPN)
資料名:
Defect and Diffusion Forum
(Defect and Diffusion Forum)
巻:
95/98
号:
Pt 1
ページ:
479-484
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0958B
ISSN:
1012-0386
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)