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文献
J-GLOBAL ID：200902177895673136
整理番号：97A0632277
0.1μmおよびそれ以下用のリソグラフィーにおけるレジスト重合体の分子量分布およびプロセス制御の影響
Effects of Molecular-Weight Distributions of Resist Polymers and Process Control on Lithography for 0.1μm and Below.
YOSHIMURA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
YAMAMOTO J
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
SHIRAISHI H
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
UCHINO S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
TERASAWA T
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
MURAI F
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
OKAZAKI S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 10 号： 4 ページ： 629-634 発行年： 1997年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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