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文献
J-GLOBAL ID：200902178258341738
整理番号：96A0169174
ナノビームプロセスシステム 3nmプローブサイズの超高真空電子ビームリソグラフィーシステム
Nanobeam process system: An ultrahigh vacuum electron beam lithography system with 3nm probe size.
HIROSHIMA H
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
OKAYAMA S
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
OGURA M
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
KOMURO M
(Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
,
NAKAZAWA H
(JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
,
NAKAGAWA Y
(JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHI K
(JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
,
TANAKA K
(JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 13 号： 6 ページ： 2514-2517 発行年： 1995年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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