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文献
J-GLOBAL ID：200902178701774359
整理番号：96A0543115
液体源化学蒸着による複金属酸化物薄膜の有機金属化学蒸着
Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Complex Metal Oxide Thin Films by Liquid Source Chemical Vapor Deposition.
VAN BUSKIRK P C
(Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA)
,
BILODEAU S M
(Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA)
,
ROEDER J F
(Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA)
,
KIRLIN P S
(Advanced Technol. Materials Inc., CT, USA)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 35 号： 4B ページ： 2520-2525 発行年： 1996年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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