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文献
J-GLOBAL ID：200902178941194066
整理番号：93A0830872
Characterization of the silane surface reaction in the chemical vapor deposition of polysilicon in a cold wall, rapid thermal system.
TOPRAC A J
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
TRACHTENBERG I
(Univ. Texas at Austin, Texas)
,
EDGAR T F
(Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名：
Proceedings of the International Conference on Chemical Vapor Deposition
(Proceedings of the International Conference on Chemical Vapor Deposition)
巻： 12th ページ： 34-40 発行年： 1993年
JST資料番号： E0761A 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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