文献
J-GLOBAL ID:200902179023861838
整理番号:93A0669383
CVD法で合成した窒化鉄-窒化チタン薄膜の微構造
Microstructure of Iron Nitride-Titanium Nitride Films Prepared by CVD.
著者 (4件):
FUNAKUBO H
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo)
,
KIEDA N
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo)
,
SHINOZAKI K
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo)
,
MIZUTANI N
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo)
資料名:
日本セラミックス協会学術論文誌
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻:
101
号:
7
ページ:
733-736
発行年:
1993年07月
JST資料番号:
F0382A
ISSN:
0914-5400
CODEN:
JCSJEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)