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文献
J-GLOBAL ID：200902179440586122
整理番号：93A0710286
Agに対する標的温度に伴うスパッタリング収量の増加
Sputtering yield increase with target temperature for Ag.
BEHRISCH R
(Max-Planck Inst. Plasmaphysik, Garching/Muenchen, DEU)
,
ECKSTEIN W
(Max-Planck Inst. Plasmaphysik, Garching/Muenchen, DEU)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 82 号： 2 ページ： 255-258 発行年： 1993年07月
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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