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文献
J-GLOBAL ID：200902179701826860
整理番号：96A0780332
非晶質シリコンのパルス急速熱処理による多結晶シリコンの形成
Polycrystalline silicon formation by pulsed rapid thermal annealing of amorphous silicon.
KUO Y
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
KOZLOWSKI P M
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 69 号： 8 ページ： 1092-1094 発行年： 1996年08月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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