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文献
J-GLOBAL ID：200902179975061533
整理番号：00A0205367
フォトレフレクタンス分光法によるゲート酸化膜に導入されたチャージングダメージの光学的評価
Optical Characterization of Gate Oxide Charging Damage by Photoreflectance Spectroscopy.
阿形真司
(大阪大 大学院)
,
寒川雅之
(大阪大 大学院)
,
毎田修
(大阪大 大学院)
,
江利口浩二
(松下電子工業 プロセス開セ)
,
藤本晶
(和歌山工高専)
,
金島岳
(大阪大 大学院)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 99 号： 491(SDM99 163-176) ページ： 75-80 発行年： 1999年12月09日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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