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文献
J-GLOBAL ID:200902180035712054   整理番号:02A0023932

溶液に浸漬した基板上へのシリカ薄膜の作製

著者 (2件):
奥寺浩樹
(産業技術総合研 中部セ)
横川善之
(産業技術総合研 中部セ)

資料名:
日本岩石鉱物鉱床学会学術講演会講演要旨集  (日本鉱物学会年会講演要旨集)

巻: 2001  ページ: 47  発行年: 2001年09月28日 
JST資料番号: L2316A  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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