文献
J-GLOBAL ID:200902180181274379
整理番号:98A0217200
サブ10nm刻印リソグラフィーと応用
Sub-10nm imprint lithography and applications.
著者 (5件):
CHOU S Y
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
KRAUSS P R
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
ZHANG W
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
GUO L
(Univ. Minnesota, Minnesota)
,
ZHUANG L
(Univ. Minnesota, Minnesota)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
15
号:
6
ページ:
2897-2904
発行年:
1997年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)