文献
J-GLOBAL ID:200902180389287644
整理番号:99A0587154
RF反応性スパッタリングによるfcc TiO1+x薄膜の機械的性質及び電気的性質
Mechanical and electrical properties of fcc TiO1+x thin films prepared by r.f. reactive sputtering.
著者 (5件):
BALLY A R
(Ecole Polytechnique F<span style=text-decoration:overline> ́e</span>d<span style=text-decoration:overline> ́e</span>rale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
HONES P
(Ecole Polytechnique F<span style=text-decoration:overline> ́e</span>d<span style=text-decoration:overline> ́e</span>rale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
SANJINES R
(Ecole Polytechnique F<span style=text-decoration:overline> ́e</span>d<span style=text-decoration:overline> ́e</span>rale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
SCHMID P E
(Ecole Polytechnique F<span style=text-decoration:overline> ́e</span>d<span style=text-decoration:overline> ́e</span>rale de Lausanne, Lausanne, CHE)
,
LEVY F
(Ecole Polytechnique F<span style=text-decoration:overline> ́e</span>d<span style=text-decoration:overline> ́e</span>rale de Lausanne, Lausanne, CHE)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
108/109
号:
1/3
ページ:
166-170
発行年:
1998年10月10日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)