文献
J-GLOBAL ID:200902181184387537
整理番号:02A0501664
パルスレーザ蒸着による作製したHfO2の構造及び電気特性
Structural and Electrical Characteristics of HfO2 Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition.
著者 (7件):
IKEDA H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
GOTO S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HONDA K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SAKASHITA M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SAKAI A
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
ZAIMA S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YASUDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
4B
ページ:
2476-2479
発行年:
2002年04月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)