文献
J-GLOBAL ID:200902182322286255
整理番号:97A0245111
Si基板上のLaNiO3薄膜の集合組織化におけるスパッタリングターゲット組成の影響
Effect of Sputtering-Target Composition on the Texturization of LaNiO3 Thin Films on Si Substrate.
著者 (3件):
LEE H-Y
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
WU T-B
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE J-F
(Synchrotron Radiation Res. Center, Hsinchu, TWN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
36
号:
1A
ページ:
301-306
発行年:
1997年01月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)