文献
J-GLOBAL ID:200902182482108477
整理番号:02A0014920
将来のCMOS技術のためのメタルゲートの仕事関数調整
Metal Gate Work Function Adjustment for Future CMOS Technology.
著者 (5件):
LU Q
(Univ. California, CA, USA)
,
LIN R
(Univ. California, CA, USA)
,
RANADE P
(Univ. California, CA, USA)
,
KING T-J
(Univ. California, CA, USA)
,
HU C
(Univ. California, CA, USA)
資料名:
Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology
(Digest of Technical Papers. Symposium on VLSI Technology)
巻:
2001
ページ:
45-46
発行年:
2001年
JST資料番号:
A0035B
ISSN:
0743-1562
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)