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文献
J-GLOBAL ID：200902182594937174
整理番号：00A1021282
Status of ArF lithography for the 130nm technology node.
RONSE K
(IMEC, Leuven, BEL)
,
VANDENBERGHE G
(IMEC, Leuven, BEL)
,
JAENEN P
(IMEC, Leuven, BEL)
,
MAENHOUDT M
(IMEC, Leuven, BEL)
,
POLLENTIER I
(IMEC, Leuven, BEL)
,
VLEEMING B
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
HESKAMP B
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
FINDERS J
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
NIROOMAND A
(Micron Technol., ID, USA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 4000 号： Pt.1 ページ： 410-422 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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