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文献
J-GLOBAL ID：200902183117532355
整理番号：96A0787956
トライボロジー用途材料の高温における低エネルギー,高電流密度イオン注入
Low energy, high current density ion implantation of materials at elevated temperatures for tribological applications.
WEI R
(Hughes Res. Lab., CA, USA)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 83 号： 1/3 ページ： 218-227 発行年： 1996年09月
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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