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文献
J-GLOBAL ID：200902183213319395
整理番号：99A0942594
PLDでSi(100)上に成長させたTiO2薄膜に対するターゲット密度とその形態の効果
The effect of target density and its morphology on TiO2 thin films grown on Si(100) by PLD.
KIM J-H
(Kwang-Ju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
,
LEE S
(Kwang-Ju Inst. Sci. and Technol., Kwangju, KOR)
,
IM H-S
(Korea Res. Inst. Standards and Sci., Taejon, KOR)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 151 号： 1/2 ページ： 6-16 発行年： 1999年09月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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