文献
J-GLOBAL ID:200902183227574541
整理番号:93A0954804
層間絶縁膜がMOSFETの信頼性に与える影響 ホットキャリア耐性と層間絶縁膜との関係
The influence of Water in Inter-Layer Dielectrics on Hot-Carrier Reliability in MOSFET’s.
著者 (5件):
下山展弘
(NTT LSI研)
,
町田克之
(NTT LSI研)
,
高橋庸夫
(NTT LSI研)
,
生津英夫
(NTT LSI研)
,
峯岸一茂
(NTTエレクトロニクステクノロジー)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
93
号:
272(R93 26-36)
ページ:
1-6
発行年:
1993年10月15日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)