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文献
J-GLOBAL ID：200902183501030413
整理番号：02A0329839
電子ビームリソグラフィーシミュレーション用の分割法の改善
Improvement in partitioning method for electron beam lithography simulation.
AYA S
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
HIFUMI T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
KISE K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
MARUMOTO K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 20 号： 1 ページ： 90-94 発行年： 2002年01月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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