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文献
J-GLOBAL ID：200902184037488653
整理番号：00A0514660
バイアス支援熱フィラメント化学蒸着法によって作製した乱流層的炭化窒化ほう素薄膜
Turbostratic boron carbonitride films produced by bias-assisted hot filament chemical vapor deposition.
YU J
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
WANG E G
(Inst. Physics, Chinese Acad. Sci., Beijing, CHN)
,
AHN J
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
YOON S F
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
ZHANG Q
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
CUI J
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
,
YU M B
(Nanyang Technological Univ., Singapore)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 87 号： 8 ページ： 4022-4025 発行年： 2000年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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