文献
J-GLOBAL ID:200902184076771796
整理番号:00A1031979
冷および熱内壁と相互作用するC4F8プラズマ中におけるフルオロカーボンラジカルの操作毎発生
Run-to-Run Evolution of Fluorocarbon Radicals in C4F8 Plasmas Interacting with Cold and Hot Inner Walls.
著者 (3件):
OSHIO H
(Toyo Univ., Kawagoe, JPN)
,
ICHIKI T
(Toyo Univ., Kawagoe, JPN)
,
HORIIKE Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
147
号:
11
ページ:
4273-4278
発行年:
2000年11月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)