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文献
J-GLOBAL ID：200902184202465787
整理番号：94A0104329
SiH4+WF6タングステン化学蒸着法による生成物の微小体積質量分析によるin-situモニタリング
In Situ Monitoring of the Products from the SiH4+WF6 Tungsten Chemical Vapor Deposition Process by Micro-Volume Mass Spectrometry.
CHEEK R W
(Univ. North Texas, Texas)
,
KELBER J A
(Univ. North Texas, Texas)
,
FLEMING J G
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
BLEWER R S
(Sandia National Lab., New Mexico)
,
LUJAN R D
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 140 号： 12 ページ： 3588-3590 発行年： 1993年12月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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