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文献

J-GLOBAL ID：200902184240446753 整理番号：93A0960066

Plasma deposited oxynitride films: Structural and electrical characterization.

著者 (5件)：

SCAGLIONE S

(IESS, CNR, Roma, ITA)

MARIUCCI L

(ENEA, Portici(NA), ITA)

MATTACCHINI A

(ENEA, Roma, ITA)

PECORA A

(ENEA, Roma, ITA)

FORTUNATO G

(ENEA, Roma, ITA)

資料名：

Amorphous Insulating Thin Films (Amorphous Insulating Thin Films)

ページ： 345-350 発行年： 1993年
JST資料番号： K19930557 ISBN： 1-55899-179-4 資料種別：会議録 (C)
発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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