文献
J-GLOBAL ID:200902184243552856
整理番号:94A0087291
スパッタ法による酸化タンタル薄膜の形成とそれによるMOS基板のプラズマ損傷
Plasma Damage during Sputtering of Tantalum Oxide Thin Films on MOS Substrate by Selected Methods.
著者 (3件):
増井寛二
(名古屋工大)
,
野村毅
(名古屋工大)
,
KWON S-C
(Korea Inst. Machinery and Metals[KIMM], Kyungsang-namdo, KOR)
資料名:
表面技術
(Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻:
44
号:
12
ページ:
1108-1113
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
G0441B
ISSN:
0915-1869
CODEN:
HYGIEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)