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文献
J-GLOBAL ID：200902184555256928
整理番号：94A0598464
0.25μmリソグラフィー用のポジティブ型レジストの乾式現像法
Positive tone dry development process for 0.25 μm lithography.
BAIK K-H
(Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
,
GOETHALS A M
(Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
,
RONSE K
(Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
,
VAN DEN HOVE L
(Interuniversity Microelectronics Center (IMEC), Leuven, BEL)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 7 号： 3 ページ： 517-532 発行年： 1994年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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