文献
J-GLOBAL ID:200902184672319655
整理番号:01A0108466
ゾル-ゲル合成ナノ多孔質シリカ膜のスクラッチ耐性の向上
Scratch-Resistant Improvement of Sol-Gel Derived Nano-Porous Silica Films.
著者 (9件):
WANG J
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
WU G M
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
SHEN J
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
YANG T H
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
ZHANG Q Y
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
DENG Z
(Tongji Univ., Shanghai, CHN)
,
FAN B
(Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
ZHOU D
(Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
ZHANG F
(Shanghai Inst. Technical Physics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名:
Journal of Sol-Gel Science and Technology
(Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻:
18
号:
3
ページ:
219-224
発行年:
2000年08月
JST資料番号:
W0812A
ISSN:
0928-0707
CODEN:
JSGTEC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)