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文献
J-GLOBAL ID：200902184713179103
整理番号：00A0751726
n-(001)Si上の単一配向(002)Zr薄膜の作製条件に関する研究
Study on Preparation Conditions of Single-Oriented (002) Zr Thin Films on n-(001) Si.
YANAGISAWA H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SASAKI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
MIYAKE H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
ABE Y
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 7A ページ： 4110-4114 発行年： 2000年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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