文献
J-GLOBAL ID:200902184746614840
整理番号:94A0139597
Practical considerations in x-ray mask mounting methodology.
著者 (3件):
LAIRD D L
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
LAUDON M F
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
ENGELSTAD R L
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
6
ページ:
2953-2957
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)