文献
J-GLOBAL ID:200902184750871963
整理番号:99A0948308
ダイヤモンドの化学気相蒸着プロセス中のPt層を用いる埋め込みダイヤモンド層へのOhm接触の作製
Fabrication of ohmic contacts to buried diamond layers using Pt layer in the diamond chemical-vapor-deposition process.
著者 (2件):
WANG C
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ITO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
75
号:
13
ページ:
1920-1922
発行年:
1999年09月27日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)