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文献
J-GLOBAL ID：200902184916321185
整理番号：93A0870519
SIMOX埋込み酸化膜中の欠陥による電気伝導
Defect Electrical Conduction in SIMOX Buried Oxides.
BROWN G A
(Texas Instruments Inc., TX)
,
REVESZ A G
(Revesz Assoc., MD)
資料名：
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻： 40 号： 9 ページ： 1700-1705 発行年： 1993年09月
JST資料番号： C0222A ISSN： 0018-9383 CODEN： IETDAI 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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