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文献
J-GLOBAL ID：200902185129060087
整理番号：02A0278791
SiC上酸化膜の屈折率の深さプロフィルの分光偏光解析法による測定
Measurements of the Depth Profile of the Refractive Indices in Oxide Films on SiC by Spectroscopic Ellipsometry.
IIDA T
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
TOMIOKA Y
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
YOSHIMOTO K
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
MIDORIKAWA M
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
TUKADA H
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
YOSHIKAWA M
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Gunma, JPN)
,
ITOH H
(Japan Atomic Energy Res. Inst., Gunma, JPN)
,
ISHIDA Y
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
YOSHIDA S
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41 号： 2A ページ： 800-804 発行年： 2002年02月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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