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文献
J-GLOBAL ID：200902185153836380
整理番号：93A0222385
クラスタSi3~Si10における複雑な電子親和力過程とイオン化
Complex electron affinity processes and ionization in the clusters Si3-Si10.
VON NIESSEN W
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
ZAKRZEWSKI V G
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
資料名：
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻： 98 号： 2 ページ： 1271-1278 発行年： 1993年01月15日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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