文献
J-GLOBAL ID:200902185160245699
整理番号:94A0124166
A new simplified positive tone DESIRE process using liquid phase silylation in DUV lithography.
著者 (4件):
BAIK K-H
(Interuniv. Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
RONSE K
(Interuniv. Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
VAN DEN HOVE L
(Interuniv. Microelectronics Center(IMEC), Leuven, BEL)
,
ROLAND B
(UCB-JSR Electronics, Haasrode, BEL)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1925
ページ:
302-316
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)